LD-5C型微電腦粉激光粉塵儀
主要技術(shù)指標(biāo)
1、配置40mm濾膜在線采樣器
2、具有可更換粒子切割器PM10、PM5、PM2.5及TSP供選擇
3、直讀粉塵質(zhì)量濃度（mg/m3）,1分鐘出結(jié)果
4、大屏幕液晶顯示器,漢字菜單提示
5、檢測(cè)靈敏度：LD—5C（L） 0.01mg/m3； LD—5C（H） 0.001mg/m3。
6、重復(fù)性誤差：±２％
7、測(cè)量精度： ±10%
8、測(cè)量范圍： LD—5C（L） 0.01～100 mg/m3； LD—5C（H） 0.001～10 mg/m3。
9、測(cè)定時(shí)間：標(biāo)準(zhǔn)時(shí)間為1分鐘，設(shè)有0.1分及手動(dòng)檔（可任意設(shè)定采樣時(shí)間）。
10、具有公共場(chǎng)所監(jiān)測(cè)模式、大氣環(huán)境監(jiān)測(cè)模式以及勞動(dòng)衛(wèi)生模式。可計(jì)算出時(shí)間加權(quán)平均值（TWA）和短時(shí)間接觸允許濃度（STEL） 等。
11、存 貯：可循環(huán)存儲(chǔ)99組數(shù)據(jù)。
12、定時(shí)采樣：可設(shè)定測(cè)量時(shí)間（1～9999）秒，關(guān)機(jī)時(shí)間（0～9999）秒， 預(yù)熱時(shí)間（0～10）秒及采樣次數(shù)（1～9999）次。
13、粉塵濃度超標(biāo)報(bào)警閾值設(shè)定：濃度*大閾值: 65mg/m3；測(cè)定時(shí)間：（1～9999）秒
14、輸出接口：
（1）PC機(jī)通訊串行接口：RS232；
（2）微型打印機(jī)輸出接口；
（3）模擬量輸出接口：0—1V；
(4) 數(shù)字量輸出接口：電平信號(hào)。
15、源：Ni-MH充電電池組（1.2V x 4），可連續(xù)使用8小時(shí)；附220VAC/12VDC 電源適配器。
16、重量：2.4kg。
LD-5C型微電腦粉激光粉塵儀主要技術(shù)特點(diǎn)
（1）設(shè)計(jì)了可更換的粒子切割器，實(shí)現(xiàn)了PM10、PM5、 PM2. 5 、 TSP多種粒子分離切割器兼容。
（2）設(shè)計(jì)了在線濾膜采樣器，實(shí)現(xiàn)了連續(xù)監(jiān)測(cè)粉塵濃度與濾 膜采樣兼容，可以分析所收集到顆粒物的成份以及求出該場(chǎng)所的質(zhì)量濃度轉(zhuǎn)換系數(shù)K值。
（3）采用激光光源，質(zhì)量濃度轉(zhuǎn)換系數(shù)不受顆粒物顏色的影響。
（4）儀器可直接測(cè)出符合衛(wèi)生部WS/T206-2001標(biāo)準(zhǔn)的質(zhì)量濃度值（mg/m3）。
（5）采用大屏幕液晶漢字顯示，實(shí)現(xiàn)了漢字菜單提示。
（6）設(shè)計(jì)了恒流控制器， 確保采樣流量恒定，切割曲線的正確。
（7）具有內(nèi)裝光學(xué)標(biāo)準(zhǔn)散板,確保儀器高穩(wěn)定性。
（8）具有特別的保護(hù)氣幕，避免了粉塵對(duì)儀器核心部件—光學(xué)系統(tǒng)的污染，確保儀器高可靠性
（9）通過計(jì)算機(jī)軟件實(shí)現(xiàn)儀器零點(diǎn)自動(dòng)調(diào)節(jié)，提高了儀器測(cè)量精度，方便了用戶使用。
（10）儀器設(shè)計(jì)了定時(shí)采樣機(jī)構(gòu)，可根據(jù)設(shè)定時(shí)間定時(shí)采樣，定時(shí)啟動(dòng)及關(guān)閉，所得數(shù)據(jù)可通過 微型打印機(jī)記錄或?qū)?/font>PC機(jī)進(jìn)行數(shù)據(jù)處理，而使儀器適合于大氣環(huán)境可吸入顆粒物連續(xù)監(jiān)測(cè)。
（11）儀器可設(shè)定粉塵濃度超標(biāo)報(bào)警閾值，粉塵超標(biāo)時(shí)自動(dòng)聲光報(bào)警，或?qū)⑿盘?hào)傳輸?shù)娇刂浦行?/font> 進(jìn)行監(jiān)控。
（12）儀器設(shè)計(jì)了模擬量輸出接口，對(duì)空氣凈化器進(jìn)行評(píng)價(jià)時(shí)，可繪制出凈化效率評(píng)價(jià)曲線。
（13）除設(shè)有適合室內(nèi)公共場(chǎng)所粉塵監(jiān)測(cè)的一般測(cè)量模式和適合大氣環(huán)境監(jiān)測(cè)的定時(shí)采樣模式外，新增加了勞動(dòng)衛(wèi)生模式，在此模式下，根據(jù)工業(yè)企業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)（GBZ1-2002）和工作場(chǎng)所有害因素接觸限值（GBZ2-2002）標(biāo)準(zhǔn)，計(jì)算出時(shí)間加權(quán)平均值（TWA）以及短時(shí)間接觸容許濃度（STEL）。
